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高低溫循環裝置主要應用于：高壓反應釜、中試生產不銹鋼反應釜、雙層玻璃反應釜、夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態恒溫控制以及制藥行業中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設備中，該系列可提供 -80℃~+250℃的溫度控制范圍，特殊可升級高溫至300℃，特別適用于快速放熱和吸熱的化學反應試驗。

高低溫循環系統主要由加熱循環系統、冷卻系統、控制系統、箱體等組成。加熱循環系統包括循環泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻、循環管道等組成。

晶圓生產完成后，需要對其進行各種參數的檢測，在檢測的過程中，需要在不同溫度下進行測試，晶圓測試用溫控設備（晶圓測試溫控系統）是高精度，高分辨率，高穩定性的控制設備。

晶圓生產完成后，需要對其進行各種參數的檢測，在檢測的過程中，需要在不同溫度下進行測試，晶圓測試用溫控設備（晶圓測試溫控系統）是高精度，高分辨率，高穩定性的控制設備。

PTHC防爆高低溫一體機和高低溫一體循環機配備人性化7英寸真彩LCD觸摸屏，良好的人機交互界面，直觀顯示本機參數及外部控溫參數，智能觸控，操作便捷。

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高低溫循環器主要應用于高壓反應釜、中試生產不銹鋼反應釜、雙層玻璃反應釜、夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態恒溫控制以及制藥行業中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設備中。